本系列设备主要用于配合湿法机实现将薄的光伏膜与其生长的砷化镓基板使用特定浓度和温度的 HF 溶液来蚀刻掉薄膜和 GaAs 衬底之间的释放层,从而将 GaAs 太阳能膜与衬底分离开来。以贴合砷化镓Laminated wafer上的聚合物薄膜作为输入,并输出单独的砷化镓laminated wafer和粘贴到聚合物支架上的太阳能膜,以达到输出的砷化镓衬底可以重新使用的目的 。
本系列设备主要用于配合湿法机实现将薄的光伏膜与其生长的砷化镓基板使用特定浓度和温度的 HF 溶液来蚀刻掉薄膜和 GaAs 衬底之间的释放层,从而将 GaAs 太阳能膜与衬底分离开来。以贴合砷化镓Laminated wafer上的聚合物薄膜作为输入,并输出单独的砷化镓laminated wafer和粘贴到聚合物支架上的太阳能膜,以达到输出的砷化镓衬底可以重新使用的目的 。